• IS-PM 贵金属膜层专用设备-IS13-2

      产品特点:
    • 主要特点和技术优势:  
      模块化通用接口,直接兼容不同形式阴极靶材,允许直流脉冲、中频、射频工作模式;兼容性强
      特殊设计的磁场及工艺气路,有效提升靶材利用率以及长期工艺稳定性
      双腔室结构设计,既保障了工艺过程的稳定性与一致性,又极大缩短了镀膜前处理时间,提高生产效率;
      自主设计的全自动智能化工艺操作系统,提供全面、便捷的工艺配方编辑及调用能力,配备实时工艺参数监控系统,允许在线远程控制。
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  • 规格参数:

    IS 系列贵金属镀膜设备参数

    IS13-2

     

    真空室尺寸

    载腔: 494*475*510 (mm)

    艺腔: 516*475*530 (mm)

    磁控溅射源

    3

    等离子清洗源

    1

    限真空

    <5.0*10-5 Pa

    高温度

    <500℃(工件加温)

    层区域

    Φ45*60 (工件最大尺寸)

     

    控制系

    ·全自动工艺控制软件

    ·参数实时监测系统

    真空室结构

    镀膜腔+装载腔

    备尺寸

    2700*2280*2770 (mm)

    20KW

    设备可依据客户需求进行定制